Titandelar för halvledare

1. Ultra-kontroll för frisläppande av föroreningar

Vi använder ett bearbetningsschema med keramiska verktyg + järn-fria verktyg under hela produktionsprocessen. Alla hjälpmaterial som kommer i kontakt med arbetsstycket genomgår tre omgångar av syrarening, strikt kontrollerar den totala halten av järn, krom, etc. till att vara inom 0,02 %. Detta undviker helt och hållet det vanliga problemet med metalljonkontamination i halvledarprocesser och förhindrar bildningen av alltför stora metallrester på skivans yta. Det minskar risken för kortslutning från materialsidan.

 

2. Lång-korrosionsbeständighet

Efter att delen har formats kommer den att genomgå två olika koncentrationer av svag oxiderande lösning för passivering. En enhetlig 8-10nm tjock titandioxidskyddsfilm kommer att genereras på ytan. Även när den exponeras för utspädd fluorvätesyra och salpetersyra blandade lösningar i halvledarrengöringsprocessen i 2000 timmar kontinuerligt, kommer det inte att finnas någon gropavlossning och inget skräp som repar skivans yta.

 

3. Hög-dimensionell stabilitet

Under bearbetningen använder hela processen flytande kvävespray för konstant temperaturkontroll, vilket kontrollerar deformationen som genereras under bearbetningen inom 0,003 mm. Innan de lämnar fabriken genomgår de färdiga produkterna 24-timmars hög- och lågtemperaturcykeltest. Även när man arbetar i en halvledarprocessmiljö vid 180 grader under lång tid, kommer det inte att finnas någon deformation som fastnar och ingen deformation fastnar. Det finns inget behov av att ofta demontera och justera inriktningsnoggrannheten.

 

4. Låg avgashastighet lämplig för vakuummiljö

Alla delar utsätts först för 120 graders vakuumbakning i 48 timmar för avgasningsbehandling. Vattenångan och de små partiklarna som adsorberas på ytan avlägsnas helt. Efter att ha installerats i halvledarvakuumkammaren kan den hjälpa utrustningen att nå målvakuumgraden 25 % snabbare än att använda vanliga delar av rostfritt stål, vilket minskar tidsförlusten för att vänta på vakuumpumpning.

1. Waferbricka för PVD-ångavsättningsmaskin

Används för att stödja silikonskivan som ska beläggas. I miljön med hög-temperatur vid målmaterialförstoftning kommer inte titandelen att reagera med förstoftningsgasen och kommer inte att släppa ut överskott av föroreningar i kammaren, vilket kan förbättra likformigheten hos metallfilmskiktet som avsätts på skivans yta med 5 %, vilket undviker problemet med spånläckage orsakat av otillräcklig metallskikttjocklek. Den är lämplig för beläggningsproduktionskrav på 28nm och lägre processer.

 

2. Waferhållare för våtrengöringsmaskin

I RCA-standardrengöringsprocessen är stativet helt nedsänkt i stark syra och starka alkaliska rengöringslösningar. Titanmaterialet kommer inte att korroderas och producera skräp, och kommer inte att fästa på skivans yta för att orsaka partikelkontamination. Det kan minska andelen partikeldefekter vid rengöring av engångsskivor med 12 %. Samtidigt kan stativets lätta egenskaper också minska överföringsbelastningen på rengöringsmaskinen och minska utrustningens energiförbrukning.

 

3. Elektrodfixeringssäte för jonimplantationsmaskin

Används för att fixera-högspänningselektroderna i maskinen. Den icke-magnetiska egenskapen hos titan kommer inte att störa jonstrålens bana, vilket gör att djupavvikelsen för jonimplantation kan kontrolleras inom ett mycket litet område, vilket undviker problemet med ojämn injektionsdos i det lokala området av wafern. Det förbättrar avsevärt chipets elektriska prestandakonsistens.

 

4. Anslutningsfläns för halvledarvakuumrörledning

Anslutning av olika sektioner av maskinens vakuumrörledning. Den låga avgashastigheten av titan kan upprätthålla en hög-ren vakuummiljö inuti rörledningen och kommer inte att orsaka fluktuationer i vakuumgraden på grund av gasutsläpp från vanliga flänsar av rostfritt stål efter lång-användning. Det minskar antalet maskinavstängningslarm som utlöses av vakuumavvikelser och ökar produktionslinjens kontinuerliga drifttid med 30 %.

1. Anpassning av icke-standardmått

Med vårt eget 5-axliga bearbetningscenter kan delarnas längd, bredd och höjd justeras efter installationsutrymmet för kundens befintliga halvledarutrustning. Det finns inget behov för kunden att ändra utrustningens gränssnitt, och det första provet kan levereras inom 7 dagar.

 

2. Anpassning av yttillstånd

Två ytbehandlingsmetoder kan väljas efter behov: spegelpolering och matt sandblästring. De är lämpliga för olika renhetskrav i tillverkningsprocessen och kan undvika partikelvidhäftning som påverkar halvledarproduktionsmiljön.

 

3. Anpassning av speciella gränssnitt

Speciella strukturer som speciella kortplatser och positioneringshål kan anpassas för att helt matcha monteringskraven för kundens egen-utvecklade utrustning. Inga ytterligare adapterkomponenter behöver läggas till.

Punkt	Specifikation
Produktnamn	Titandelar för halvledare
Material	Rent titan (Grad 2), Titanium Legering (Grade 5 Ti-6Al-4V)
Tillverkningsprocess	CNC-bearbetning, svarvning, fräsning, slipning, svetsning
Tillgängliga former	Plåt, ring, rör, stav, block, anpassade delar
Mått	Anpassad enligt ritningar eller prover
Tolerans	Upp till ±0,01 mm
Ytfinish	Polerad, Sandblästrad, Betad, Anodiserad, Precisionsbearbetad
Ytjämnhet	Ra 0,2–1,6 μm (anpassad tillgänglig)
Renhet	Upp till 99,6 % (grad 2 titan)
Driftstemperatur	Upp till 400 grader
Densitet	4,51 g/cm³
Hårdhet	Betyg 2: HB 145–200; Betyg 5: HRC 30–36
Korrosionsbeständighet	Utmärkt motståndskraft mot syror, alkalier och processkemikalier
Kemisk kompatibilitet	Lämplig för halvledarkemikalier och miljöer med ultra-hög renhet
Inspektion	Dimensionell inspektion, materialcertifiering, ytbesiktning

 

 

 

Populära Taggar: titan delar för halvledare, Kina titan delar för halvledare tillverkare, leverantörer, fabrik