Titan sputtering mål

 

Titanium Sputtering Target är ett kritiskt beläggningsmaterial som används i PVD-processer (Physical Vapour Deposition) för halvledarenheter, platta bildskärmar, optiska beläggningar, datalagringsmedia och dekorativa ytbehandlingar. Kvaliteten på målet påverkar direkt filmens renhet, avsättningsstabilitet, partikelgenerering och slutlig beläggningsprestanda. China Super Tech Co., Ltd. tillverkar titanmål med hög-renhet med hjälp av vakuumsmältning, precisionssmidning och kontrollerade bearbetningsprocesser för att säkerställa homogen mikrostruktur, konsekvent kornfördelning och stabilt sputterbeteende, vilket hjälper kunder att uppnå högre beläggningskvalitet, förbättrat målutnyttjande och minskad produktionsstopp.

 

 

1.Hög renhet för stabil tunnfilmsprestanda
Vi erbjuder renhetsnivåer upp till 99,995 %, framställda av noggrant utvalda titanråvaror och förfinade genom vakuumsmältningsprocesser. Lägre föroreningshalt minimerar kontaminering under avsättning, vilket är särskilt viktigt för halvledar-, optiska och elektroniska tillämpningar som kräver hög filmintegritet.

2.Enhetlig kornstruktur för konsekvent förstoftning
Genom smide i flera-steg och termo-mekanisk bearbetning blir den interna mikrostrukturen mer homogen än konventionella gjutna material. Enhetlig kornfördelning minskar lokal erosion, förbättrar förstoftningslikformigheten och hjälper till att upprätthålla stabila avsättningshastigheter under mållivslängden.

3. Låg partikelgenerering
Ytdefekter och mikrostrukturella inkonsekvenser är vanliga orsaker till partikelbildning under sputtering. Våra precisionsbearbetnings- och ytbehandlingsprocesser minskar defektdensiteten, vilket hjälper kunderna att minska partikelföroreningen och förbättra produktionsutbytet.

4. Stark bindningspålitlighet
För bundna mål använder vi kontrollerad bindningsteknik och strikta gränssnittsinspektionsprocedurer för att uppnå utmärkt värmeledningsförmåga och värmeavledning. Detta hjälper till att minska termisk stress under hög-förstoftning och förlänger mållivslängden.

5.Högt materialutnyttjande
Optimerad dimensionsnoggrannhet och enhetliga erosionsegenskaper möjliggör effektivare målförbrukning före byte, vilket minskar de totala beläggningskostnaderna och förbättrar utrustningens drifttid.

 

 

1.Halvledartillverkning
Titanfilmer används i stor utsträckning som vidhäftningsskikt och barriärskikt i integrerade kretsar. Mål med hög-renhet hjälper till att minska föroreningsrelaterade-defekter, medan enhetligt sputterbeteende stöder exakt filmtjocklekskontroll som krävs för avancerad halvledartillverkning.

2. Optiska beläggningar
Titan-baserade beläggningar används i linser, filter och optiska komponenter. Stabil målsammansättning bidrar till konsekventa optiska egenskaper, inklusive reflektivitet, transmission och kontroll av brytningsindex över stora produktionssatser.

3. Produktion av plattskärmar
Displaytillverkare kräver enhetliga beläggningar över stora substratytor. Homogena målmikrostrukturer stödjer en jämn filmavlagring, vilket hjälper till att förbättra bildskärmens konsistens och minska beläggningsvariation mellan paneler.

4. Datalagringsmedia
Magnetiska lagringsenheter är beroende av mycket kontrollerade tunna-filmstrukturer. Hög-densitet och låga-defekta mål bidrar till bättre filmkvalitet och förbättrad inspelningsprestanda.

5. Dekorativa och funktionella beläggningar
Titanbeläggningar ger slitstyrka, korrosionsbeständighet och tilltalande ytfinish. Konsekvent sputterprestanda säkerställer enhetligt färgutseende och beläggningstjocklek för konsument- och industriprodukter.

 

 

1. Anpassade renhetsnivåer
China Super Tech Co., Ltd. kan leverera olika renhetsgrader enligt krav på beläggningsprocessen, balansering av prestandamål och projektbudgetar.

2.Flexibla mått och former
Finns i runda, rektangulära, roterande, plana och kunddesignade geometrier-. Precisionsbearbetningskapacitet tillåter snäva dimensionella toleranser för kompatibilitet med stora sputtersystem.

3. Lösningar för limning och stödplåt
Vi tillhandahåller kompletta sammanfogade målenheter med skräddarsydda material och konfigurationer för stödplåt för att matcha specifika utrustningskrav.

4.Kontrollerad spannmålsstrukturteknik
Till skillnad från leverantörer som bara fokuserar på kemi, optimerar vi smidesreduktionsförhållanden och termiska behandlingsparametrar för att uppnå kontrollerade kornstrukturer som förbättrar sputteringslikformighet och målutnyttjande.

5.Fullständig kvalitetsdokumentation
Tillgänglig dokumentation inkluderar rapporter om kemisk sammansättning, registreringar av dimensionsinspektioner, ultraljudstestrapporter, materialcertifikat och anpassade kvalitetskrav för halvledar- och elektronikindustrier.

 

 

Parameter	Specifikation
Material	Rent titan
Renhet	99.5% – 99.995%
Tillverkningsprocess	Vakuumsmältning + smide + precisionsbearbetning
Formalternativ	Rund, rektangulär, roterande, anpassad
Densitet	Större än eller lika med 99 % teoretisk densitet
Kornstruktur	Fin och enhetlig
Ytfinish	Precisionsbearbetad
Bindningsalternativ	Indiumbondning / Elastomer Bonding / Anpassad
Diameterintervall	Upp till 500 mm
Längdintervall	Anpassad
Tjockleksområde	Anpassad
Dimensionell tolerans	Enligt kundens krav
Inspektionsmetoder	Kemisk analys, UT-testning, dimensionell inspektion
Efterlevnad	ASTM B265 och kundspecifikationer

 

 

 

Populära Taggar: titan sputtering mål, Kina titan sputtering mål tillverkare, leverantörer, fabrik, titananodiserade bearbetade delar, CNC-bearbetade titandelar, värmebeständiga delar i titan, titan högprecisions-CNC-komponenter, titanbearbetade komponenter med hög tolerans, titanfrästa delar